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 Espectrômetro de Massa com Plasma Indutivamente Acoplado ICP-MS Plasmaquant® MS Ver maior

Espectrômetro de Massa com Plasma Indutivamente Acoplado ICP-MS Plasmaquant® MS

Analytik Jena

Atualizado em: 10-12-2015

Descrição

Espectrômetro de Massa com Plasma Indutivamente acoplado de bancada. Compacto, com controle completo de todos os parâmetros instrumentais e acessórios compatíveis via PC.

Possui uma óptica refletora de íons em 90° patenteada para uma sensibilidade superior e um projeto inovador de gerador de RF, que reduz significativamente os custos operacionais devido a redução da quantidade de argônio necessária para operação.


Sistema de introdução de amostras          

  • Câmara de nebulização resfriada com Peltier e controle de temperatura para melhor sensibilidade e reduzidas interferências causadas pela formação de óxidos. Temperatura controlada via PC com faixa de operação de -15°C a temperatura ambiente.
  • Baixo fluxo (400 µL/min) com nebulizador concêntrico em vidro. Nebulizador opcionalmente em PFA inerte e uma faixa com baixo fluxo, nebulizadores microconcêntricos em material inerte.
  • Bomba peristáltica completamente controlada via PC, velocidade variável entre 0 e 100 rpm, quatro canais independentes com pressão ajustável para amostras, dreno, padrão interno e reserva.
  • Tocha padrão em peça única de baixo fluxo, semi desmontável opcional com injetor de safira ou platina para uso de amostras em ácido fluorídrico ou provenientes de fusão

 

Controle de Gases

  • PlasmaQuant®MS: Opcionais: Nitrox, controle de gás MFC integrado para adição de oxigênio e nitrogênio no plasma
  • PlasmaQuant®MS Elite: Nitrox, controle de gás MFC integrado para adição de oxigênio e nitrogênio no plasma
  • Um comando, otimização automática de todos os gases
  • Fluxos de gás padrão, permite a diluição de aerosol para matrizes carregadas

 

Gerador de RF

  • Gerador de RF (300 V RMS, 27 MHz), bobina de indução com 3 voltas, resfriada com água, virtualmente centralizada e aterrada. Sem necessidade de escudo de plasma (plasma shield).
  • Potência de 0,3 a 1,6 kW com incrementos de 10 W
  • Gera condições de plasma robusto com <10L/min de gás de resfriamento.
  • Ignição e desligamento automáticos. Sequencia de ignição programável para diferentes acessórios e tipos de plasma.

 

Plasma

  • Otimização dos parâmetros do plasma de acordo com o desempenho necessário para os analitos alvo (sensibilidade, interferências, etc.)
  • Controle completo do ajuste de posição da tocha do ICP (vertical, horizontal, profundidade) via PC para máxima sensibilidade e mínima interferência de poliatômicos
  • Compartimento de plasma espaçoso simplifica manutenção de rotina.
  • Desempenho de plasma frio (cool plasma) excepcional reduz interferências espectrais do plasma para melhores limites de detecção.Gerenciamento de interferência

 

Gerenciamento de Interferência

  • Tecnologia de cela de reação e colisão integrada (iCRC)
  • Reduz interferências introduzindo gases de colisão e reação simples (hélio e hidrogênio) no plasma durante a passagem através do orifício dos cones
  • Fluxos de gás controlados com precisão por meio de controladores de fluxo de massa (MFC)
  • Troca rápida entre os modos com e sem gases de colisão/reação
  • Compatível com geradores de hidrogênio para maior segurança e sem necessidade do uso de filtros de purificação de gases adicionalmente
  • Tecnologia BOOST, melhora a transmissão de íons usando iCRC aplicando voltagem positiva no skimmer cone

 

Interface

  • Fácil acesso para remoção dos cones de amostragem e skimmer através de um sistema de montagem simples
  • Conjunto padrão de cones de níquel de alto desempenho. Opcionalmente conjunto de cones de platina para ácidos corrosivos e solventes
  • Diâmetros dos orifícios: de amostragem 1,1 mm, skimmer 0,5 mm
  • Interface do plasma com resfriada com água para maior estabilidade, incluindo resfriamento individual e independente dos cones para rápida iniciação, estabilidade melhorada e rápido resfriamento

 

Óptica Iônica

  • Sistema de óptica iônica ReflexION; com focalização patenteada 3D, espelho de íons com ângulo de 90°
  • Reflete o feixe de íons de analitos com um ângulo de 90° deixando fótons e partículas neutras passar através do sistema de vácuo. O espelho de íons cria um campo eletrostático parabólico para focalizar os íons dos analitos com eficiência ótima na abertura da entrada do quadrupolo. Resulta em sensibilidade superior
  • Fácil acesso as lentes de extração 1 e 2 para limpeza, sem quebrar o vácuo
  • Otimização automática de todos os parâmetros ópticos, incluindo espelho iônico, baseado em critérios selecionados como sinal e interferências

 

Sistema de Vácuo

  • Possui uma bomba mecânica Leybold SV40 e duas bombas turbomoleculares Pfeiffer HiPace 300 para bombeamento eficiente
  • Linha com extensão de até 12 m para locação remota para redução de ruído, contaminação e aquecimento no laboratório
  • Bombas turbomoleculares com rolamentos de cerâmica livre de manutenção. Primeira bomba turbomolecular é posicionada imediatamente atrás do espelho iônico e do skimmer cone para máxima eficiência de bombeamento e remoção de partículas neutras indesejadas
  • ·Porta de isolamento de vácuo pneumática entre o primeiro e o segundo estágios do vácuo. A porta fecha automaticamente em caso de queda de energia
  • Reinicia o vácuo automaticamente após queda de energia
  • Modo de espera automático se houver inatividade no plasma ou usuário por um determinado intervalo de tempo

 

Quadrupolo HD

  • Produzido em aço inox, barras arredondadas feitas com tolerância micrométrica montadas em um suporte de cerâmica para geração de um campo hiperbólico quase perfeito. Construção em aço inox permite a determinação de Hg sem efeito memória
  • Quadrupolo de entrada com barras curvas com projeto em duplo eixo para baixos níveis de ruído
  • Todas as voltagens são completamente isoladas e com controle via PC
  • Fonte no estado sólido resfriada com ar
  • Placa incluindo um medidor de múltiplos canais com até 40 canais por massa
  • Faixa de medida de 3 a 256 u.m.a com proteção tipo explosão zero. Resolução ajustável de 0,5 a 1,2 u.m.a
  • Estabilidade de calibração de massa: 0,05 u.m.a por dia
  • RF do quadrupolo: 3,0 MHz
  • Velocidade de varredura: 5115 u.m.a/s
  • Dwell time mínimo: 50 µs

 

Detector ADD10

  • Detector com faixa de medição inteiramente digital com 10 ordens de magnitude de faixa linear em um detector de contagem de pulso
  • Sem calibrações cruzadas complexas e demoradas entre modos analógicos e digitais
  • Dinodos de medição posicionados fora do eixo focal para reduzido sinal de fundo

 

Desempenho

PlasmaQuant®MS

PlasmaQuant®MS Elite

• Be > 20 Mcps/ppm
• In > 300 Mcps/ppm
• Th> 300 Mcps/ppm
• CeO/Ce< 2% (formação máxima do óxido do íon)
• Ba++/Ba+ <3%(formação máxima de íons duplamente carregados)
• Ce++/Ce+<2%
• Sinal de fundo (em 5u.m.a): < 0,5 cs
• Abundância de sensibilidade: 1 x 10-6 baixa, 1 x 10-7 alta em 23Na
• Precisão de razão isotópica: <0,07% (107Ag: 109Ag)
• Precisão (10 leituras, 20 minutos): < 3%
• Be > 50 Mcps/ppm
• In > 1500 Mcps/ppm
• Th> 1000 Mcps/ppm
• CeO/Ce< 2% (formação máxima do óxido do íon)
• Ba++/Ba+ <3%(formação máxima de íons duplamente carregados)
• Ce++/Ce+<2%
• Sinal de fundo (em 5u.m.a): < 1,0 cs
• Abundância de sensibilidade: 3 x 10-8 em 238U
• Precisão de razão isotópica: <0,07% (235U: 238U)
• Precisão (10 leituras, 20 minutos): < 3%

 

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